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產(chǎn)品描述
參數(shù)
BG-406系列曝光機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)和曝光。該系列曝光機(jī)包括4″、6″單/雙面曝光機(jī)，可實(shí)現(xiàn)單/雙面對(duì)準(zhǔn)、單面曝光。
The series of BG-406 Mask Aligners could be used in aligning and exposure process of small or middle scale IC, Diode, dynatron, GPP, LED, Power Electronic devices, etc. The series of Mask Aligners include 4″，6″single/double sides aligning and single side exposure.
主要技術(shù)指標(biāo) Main Specifications
| 性能名稱 | 技術(shù)指標(biāo) | Performance name | Technical index | ||
| 適用最大基片尺寸 | Max 6″（φ150 mm） | Applicable maximum substrate size | Max 6″（φ150 mm） | ||
| 適用最大掩模版尺寸 | Max 7″（175×175 mm） | Applicable maximum reticle size | Max 7″（175×175 mm） | ||
| 對(duì)準(zhǔn)精度 | 頂部顯微鏡 | ±1μm | Alignment Accuracy | Top Microscope | ±1μm |
| 底部顯微鏡 | ±2μm | Bottom Microscope | ±2μm | ||
| 曝光分辨率 | 1μm | Exposure Resolution | 1μm | ||
關(guān)鍵詞:
曝光
顯微鏡
掃描
范圍
系統(tǒng)
物鏡
對(duì)準(zhǔn)精度
采用
工作臺(tái)
未找到相應(yīng)參數(shù)組，請(qǐng)于后臺(tái)屬性模板中添加
上一個(gè)
SB-402雙面曝光機(jī)
下一個(gè)
BG-501曝光機(jī)
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